弧光放电式装置中处理物设置回转盘，回转盘转动，装置内部侧面的金属处理面使其蒸发，其反应气体与处理物表面堆积形成处理膜。

①

装置内真空状态后，处理物加热

②

处理物上给与－（负）电压。

③

导入氮素与碳化物质形成反应气体。

④

装置内的金属目标（Ti）被弧光放电蒸发发生金属离子。

⑤

＋（正）带电金属以及气体，吸附-（负）带电处理物释放的电子（e-）形成皮膜。